我國實(shí)用新型專利質(zhì)量穩(wěn)步提升

　　記者今天從國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局獲悉，《中國實(shí)用新型專利制度發(fā)展?fàn)顩r》日前首次公開發(fā)布。據(jù)悉，這是我國第一次較為全面、系統(tǒng)地向國內(nèi)外介紹中國實(shí)用新型專利制度的基本情況和主要成就。

　　據(jù)介紹，近10年來，我國年度實(shí)用新型專利權(quán)的無效請(qǐng)求量相對(duì)當(dāng)年授權(quán)量的比例呈明顯下降趨勢(shì)。這表明，實(shí)用新型專利的質(zhì)量穩(wěn)步提升，制度運(yùn)行良好。

　　同時(shí)，中國實(shí)用新型專利制度有力促進(jìn)了專利技術(shù)轉(zhuǎn)化。截至2011年年底，在國內(nèi)有效實(shí)用新型專利中，維持3年以上的占52.8%。從2006年到2010年，授權(quán)實(shí)用新型專利的實(shí)施率均高于60%編者按：調(diào)查顯示，我國已經(jīng)成為全球?qū)＠�申�?qǐng)第一大國，但是專利數(shù)量多并不代表創(chuàng)新能力一定強(qiáng)，因?yàn)橛泻芏鄬＠�并不�?shí)用，就導(dǎo)致了空有專利而沒有用武之地的現(xiàn)象。日前，《中國實(shí)用新型專利制度發(fā)展?fàn)顩r》首次公開發(fā)布，截至2011年年底，在國內(nèi)有效實(shí)用新型專利中，維持3年以上的占52.8%。從2006年到2010年，授權(quán)實(shí)用新型專利的實(shí)施率均高于60%。這表明，實(shí)用新型專利的質(zhì)量穩(wěn)步提升，制度運(yùn)行良好。已實(shí)施的實(shí)用新型專利中，專利權(quán)人自行實(shí)施的比例高于90%。較長的維持年限和較高的實(shí)施率，不僅說明實(shí)用新型專利具有較高的技術(shù)含量，而且說明其對(duì)促進(jìn)經(jīng)濟(jì)發(fā)展具有重要作用。

　　此外，中國高度重視實(shí)用新型專利質(zhì)量問題。在筑牢法律保障基礎(chǔ)的同時(shí)，國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局不斷完善審查質(zhì)量管理體系，加大對(duì)抄襲現(xiàn)有技術(shù)和重復(fù)申請(qǐng)等非正常專利申請(qǐng)行為的打擊力度，建立專利審查質(zhì)量的外部反饋體系，接受公眾對(duì)包括實(shí)用新型專利在內(nèi)的專利審查工作的監(jiān)督與投訴。