臺式高分辨率質譜系統(tǒng)快速鑒定藥物雜質

前言

雜質分析對于藥物的研發(fā)至關重要1。在研究過程中，雜質譜信息能幫助藥物化學家優(yōu)化合成路線和避免潛在的有毒雜質。在開發(fā)過程中，當大量母體化合物存在時，鑒定和表征痕量雜質至關重要，從而促進了高分辨率、高靈敏度和高掃描速度的HR-MS 儀器和智能化結構鑒定軟件的發(fā)展。

 

為了展示HR-MS 在雜質分析和結構鑒定方面的能力，本文選用了市售藥物奧美拉唑。本研究采用了賽默飛世爾科技的Q Exactive 臺式Orbitrap 質譜儀和數(shù)據(jù)處理軟件Mass Frontier 來快速分析和鑒定奧美拉唑中雜質的結構。

 

方法

材料與試劑

奧美拉唑（CAS# 73590-58-6）購自Sigma-Aldrich，產品號O104-100MG。

乙腈和水來自Fisher Scientific

乙酸銨購自Sigma-Aldrich，產品號73594-25G-F。

甲酸購自Sigma-Aldrich，產品號33015-500ml。

 

樣品前處理

奧美拉唑溶液（0.5 mg/mL）配制在1:1 乙腈/ 水混合溶劑中。

 

HPLC 方法

色譜分離采用Ultimate3000 UHPLC 系統(tǒng)。

色譜柱：Hypersil GOLD 柱，2.1mm×150mm，粒徑3 μm.

柱溫：35 ℃，流速：0.5 mL/min，進樣體積：8 μL

流動相：A - 水；B - 乙腈；C -100 mM 乙酸銨，用乙酸調節(jié)pH 值到5

 

質譜方法

質譜分析采用 Q Exactive 質譜儀的電噴霧正離子模式。在70,000 和 35,000 分辨率FWHM@m/z 200 下分別采集高分辨全掃描一級質譜數(shù)據(jù)和數(shù)據(jù)依賴Top3 二級質譜數(shù)據(jù)。

 

離子源條件：

離子化模式：正離子ESI

離子源：HESI-II

鞘氣流速：45 單位N2

輔助氣流速：10 單位N2

噴霧電壓（KV）：+3.5

毛細管柱溫度（℃）：320

S-lens RF 水平：50.0

加熱器溫度（℃）：400

 

Q Exactive 方法參數(shù)：

AGC 目標（全掃描）：3e6

AGC 目標（MS/MS）：1e5

NCE：30，35% 階梯變化

掃描范圍（全掃描MS）：180 到1200 amu